发明授权
- 专利标题: 表面改性二氧化硅纳米颗粒的制造方法以及表面改性二氧化硅纳米颗粒
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申请号: CN201580029203.6申请日: 2015-05-28
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公开(公告)号: CN106414328B公开(公告)日: 2019-01-22
- 发明人: 柳田浩治 , 中杉茂正 , 仁川裕 , 片山朋英 , 坂本胜幸
- 申请人: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 申请人地址: 卢森堡L-1648纪尧姆二世广场46号
- 专利权人: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 当前专利权人: AZ电子材料(卢森堡)有限公司
- 当前专利权人地址: 卢森堡L-1648纪尧姆二世广场46号
- 代理机构: 北京三幸商标专利事务所
- 代理商 刘淼
- 优先权: 2014-114873 2014.06.03 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/065382 2015.05.28
- 国际公布: WO2015/186596 JA 2015.12.10
- 进入国家日期: 2016-12-01
- 主分类号: C01B33/18
- IPC分类号: C01B33/18 ; C01B33/145 ; C09C1/30 ; C09C3/12
摘要:
本发明提供一种高度地分散于有机分散介质、并且具有高的透明性以及保存稳定性的表面改性二氧化硅纳米颗粒分散液。一种方法,其为制造表面改性二氧化硅纳米颗粒的方法,包含如下的工序:准备包含二氧化硅纳米颗粒与水性分散介质的第1二氧化硅纳米颗粒分散液的工序,利用包含从环状酯以及环状酰胺中选出的至少1种的有机分散介质将前述第1二氧化硅纳米颗粒分散液中的前述水性分散介质进行置换而获得第2二氧化硅纳米颗粒分散液的工序,向前述第2二氧化硅纳米颗粒分散液中加入由式(1)(式中,R1各自独立地为C1~C20的烃基,R2是C1~C3的烃基)表示的硅烷偶联剂,从而将二氧化硅纳米颗粒的表面进行改性的工序。
公开/授权文献
- CN106414328A 表面改性二氧化硅纳米颗粒的制造方法以及表面改性二氧化硅纳米颗粒 公开/授权日:2017-02-15