Invention Grant
- Patent Title: 自含有咪唑和双环氧化物化合物的反应产物的铜电镀浴电镀光致抗蚀剂限定的特征的方法
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Application No.: CN201610621009.3Application Date: 2016-08-01
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Publication No.: CN106435663BPublication Date: 2019-03-26
- Inventor: M·托尔塞斯 , Z·尼亚齐姆贝托瓦 , Y·秦 , J·沃尔特英克 , J·狄茨维斯泽柯 , E·爱丁顿 , M·列斐伏尔
- Applicant: 罗门哈斯电子材料有限责任公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
- Applicant Address: 美国马萨诸塞州
- Assignee: 罗门哈斯电子材料有限责任公司,陶氏环球技术有限责任公司
- Current Assignee: 罗门哈斯电子材料有限责任公司,陶氏环球技术有限责任公司
- Current Assignee Address: 美国马萨诸塞州
- Agency: 上海专利商标事务所有限公司
- Agent 陈哲锋; 胡嘉倩
- Priority: 62/201881 2015.08.06 US
- Main IPC: C25D3/38
- IPC: C25D3/38 ; C25D5/02
Abstract:
电镀方法能够镀覆具有基本上均匀形态的光致抗蚀剂限定的特征。所述电镀方法包括具有咪唑和双环氧化物的反应产物的铜电镀浴以电镀所述光致抗蚀剂限定的特征。此类特征包括柱、接合垫和线空间特征。
Public/Granted literature
- CN106435663A 自含有咪唑和双环氧化物化合物的反应产物的铜电镀浴电镀光致抗蚀剂限定的特征的方法 Public/Granted day:2017-02-22
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