本发明涉及激光器光刻技术领域，提供了一种基于微纳结构的光刻方法。所述方法包括根据光刻的图案和微纳材料，设定激光器；动态调整激光器的光功率和/或脉冲时间；选择第一腐蚀剂，刻蚀微纳材料层中晶化区域；选择第二腐蚀剂，刻蚀沉积态的微纳材料和基座，在基座上形成相应三维图形。本发明实施例利用基于微纳材料(也称为相变材料)的热光刻技术实现了一种快速制备三维微纳结构的方法，能够实现连续作业，性价比高，操作简单，对环境要求宽松，并且可以在系统上增加微透镜阵列以增加产出率，实用性强。