发明公开
- 专利标题: 半导体装置用接合线
- 专利标题(英): Bonding wire for semiconductor device
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申请号: CN201580020010.4申请日: 2015-09-17
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公开(公告)号: CN106463495A公开(公告)日: 2017-02-22
- 发明人: 小田大造 , 江藤基稀 , 斋藤和之 , 榛原照男 , 大石良 , 山田隆 , 宇野智裕
- 申请人: 日铁住金新材料股份有限公司 , 新日铁住金高新材料株式会社
- 申请人地址: 日本埼玉县
- 专利权人: 日铁住金新材料股份有限公司,新日铁住金高新材料株式会社
- 当前专利权人: 日铁新材料股份有限公司,日铁化学材料株式会社
- 当前专利权人地址: 日本埼玉县
- 代理机构: 北京市中咨律师事务所
- 代理商 刘航; 段承恩
- 优先权: 2015-159692 2015.08.12 JP
- 国际申请: PCT/JP2015/076487 2015.09.17
- 进入国家日期: 2016-10-14
- 主分类号: H01L23/52
- IPC分类号: H01L23/52 ; H01L23/532 ; H01L23/49
摘要:
提供一种接合线,该接合线是在表面具有Pd被覆层的Cu接合线,改善了在高温高湿环境中的球接合部的接合可靠性,适合于车载用装置。一种半导体装置用接合线,具有Cu合金芯材、和形成于所述Cu合金芯材的表面的Pd被覆层,接合线包含合计为0.011~1.2质量%的Ga和/或Ge。由此,能够提高在高温高湿环境下的球接合部的接合寿命,改善接合可靠性。Pd被覆层的厚度优选为0.015~0.150μm。当接合线还含有分别为0.011~1.2质量%的Ni、Ir、Pt中的1种以上时,能够提高在175℃以上的高温环境中的球接合部可靠性。另外,当在Pd被覆层的表面进一步形成包含Au和Pd的合金表皮层时,楔接合性改善。
公开/授权文献
- CN106463495B 半导体装置用接合线 公开/授权日:2020-09-04
IPC分类: