Invention Publication
- Patent Title: 利用映射到结构上的不一致而建模的结构的分析
- Patent Title (English): Analysis of a structure modeled with inconsistencies mapped thereon
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Application No.: CN201610560036.4Application Date: 2016-07-15
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Publication No.: CN106469236APublication Date: 2017-03-01
- Inventor: H·H·塔特 , K·M·格林 , J·Z·林 , C·R·布鲁尔 , R·L·凯勒
- Applicant: 波音公司
- Applicant Address: 美国伊利诺伊州
- Assignee: 波音公司
- Current Assignee: 波音公司
- Current Assignee Address: 美国伊利诺伊州
- Agency: 北京三友知识产权代理有限公司
- Agent 吕俊刚; 杨薇
- Priority: 14/832,575 2015.08.21 US
- Main IPC: G06F17/50
- IPC: G06F17/50

Abstract:
利用映射到结构上的不一致而建模的结构的分析。一种分析结构的方法(500)包括:处理针对多层结构的非破坏性检查(NDI)数据(112),以限定内部层或相邻层之间的界面处的不一致区域(402)。该方法包括将不一致区域映射到结构的标称的有限元模型(114)的有限元(404)。这些有限元由此被识别为受影响有限元并且包括针对受影响内部层或界面的有限元。该方法包括根据标称有限元模型和分派给受影响有限元的各个元数据集的修改的属性或状态值产生受影响结构(200)的重构的有限元模型(116)。该方法包括在负载下执行重构的有限元模型的有限元方法(FEM)故障分析(110),这指示受影响结构的残余完整性的程度。
Public/Granted literature
- CN106469236B 利用映射到结构上的不一致而建模的结构的分析 Public/Granted day:2021-07-20
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