发明授权
- 专利标题: 一种快速恢复二极管及其制造方法
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申请号: CN201510638966.2申请日: 2015-09-30
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公开(公告)号: CN106558624B公开(公告)日: 2024-03-19
- 发明人: 吴迪 , 刘钺杨 , 何延强 , 董少华 , 曹功勋 , 刘江 , 金锐 , 温家良
- 申请人: 国网智能电网研究院 , 国网上海市电力公司 , 国家电网公司
- 申请人地址: 北京市昌平区小汤山镇大东流村路270号(未来科技城); ;
- 专利权人: 国网智能电网研究院,国网上海市电力公司,国家电网公司
- 当前专利权人: 国网智能电网研究院,国网上海市电力公司,国家电网公司
- 当前专利权人地址: 北京市昌平区小汤山镇大东流村路270号(未来科技城); ;
- 代理机构: 北京安博达知识产权代理有限公司
- 代理商 徐国文
- 主分类号: H01L29/861
- IPC分类号: H01L29/861 ; H01L29/06 ; H01L29/40 ; H01L29/66 ; H01L21/28
摘要:
本发明提供一种快速恢复二极管及其制造方法,所述二极管包括:具有三个具有间隔的P型硅区(3)的且表面有氧化层(2)的N型硅衬底(1),所述氧化层(2)上的多晶层(5),所述多晶层(5)上的阳极金属层和所述N型硅衬底(1)上与其相对的阴极金属层,所述P型硅区(3)具有深能级掺杂区(4);所述制造方法包括:1)初始氧化;2)形成有源区和分压环;3)形成PN结;4)多晶生长:5)寿命控制;6)多晶场板;7)形成阳极金属电极并表面钝化;8)形成Al/Ti/Ni/Ag或Ti/Ni/Ag阴极金属电极。本发明制造方法利用多晶实现激光退火终端保护,避免激光退火导致终端受损以致耐压失效。
公开/授权文献
- CN106558624A 一种快速恢复二极管及其制造方法 公开/授权日:2017-04-05
IPC分类: