Invention Grant
- Patent Title: 用于化学机械抛光的多层抛光垫
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Application No.: CN201580023882.6Application Date: 2015-04-30
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Publication No.: CN106575613BPublication Date: 2019-12-17
- Inventor: B.姆尔齐格洛德 , J.奈尔 , G.布莱克
- Applicant: 嘉柏微电子材料股份公司
- Applicant Address: 美国伊利诺伊州
- Assignee: 嘉柏微电子材料股份公司
- Current Assignee: CMC材料有限责任公司
- Current Assignee Address: 美国伊利诺伊州
- Agency: 北京市柳沈律师事务所
- Agent 宋莉; 邢岳
- Priority: 61/989,669 2014.05.07 US
- International Application: PCT/US2015/028503 2015.04.30
- International Announcement: WO2015/171419 EN 2015.11.12
- Date entered country: 2016-11-07
- Main IPC: H01L21/304
- IPC: H01L21/304
Abstract:
本发明涉及用于化学机械抛光的多层抛光垫,其包含顶层、中间层及底层,其中,该顶层与该底层通过该中间层而接合在一起,且没有使用粘合剂。本发明还涉及包含光学透射区域的多层抛光垫,其中,该多层抛光垫的各层接合在一起而没有使用粘合剂。
Public/Granted literature
- CN106575613A 用于化学机械抛光的多层抛光垫 Public/Granted day:2017-04-19
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IPC分类: