发明授权
- 专利标题: CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法
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申请号: CN201611207243.8申请日: 2016-12-23
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公开(公告)号: CN106583297B公开(公告)日: 2019-05-17
- 发明人: 陶利权 , 柳滨 , 史霄 , 蒲继祖
- 申请人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
- 申请人地址: 北京市大兴区北京经济技术开发区泰河三街1号
- 专利权人: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)
- 当前专利权人: 北京晶亦精微科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 100176 北京市大兴区经济技术开发区泰河三街1号2幢2层101
- 代理机构: 北京中建联合知识产权代理事务所
- 代理商 朱婷婷; 朱丽岩
- 主分类号: B08B1/04
- IPC分类号: B08B1/04 ; F16C3/02 ; F16L27/08 ; F16L27/087
摘要:
一种CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法,该结构包括腔体单元以及与腔体单元呈套接组合的惰轴单元。腔体单元包括腔座、组合轴承、外隔圈、内隔圈、压盖和直角接头。惰轴单元包括惰轴、格莱圈、隔套、锁母。惰轴单元呈孔轴定位方式穿入腔体单元的组合轴承,且使组合轴承位于惰轴单元的锁母和隔套之间。由惰轴单元中的锁母与腔体单元中的压盖配合轴承之间的内隔圈和外隔圈,实现对组合轴承的轴向消隙。本发明的腔体单元可为清洗刷浸润的纯水提供引入,并对旋转轴承提供支撑定位。惰轴单元的外部工作环境处于纯水介质中,惰轴单元可有效对清洗刷进行在线浸润,并对清洗刷旋转提供定心支撑及定心卡接。
公开/授权文献
- CN106583297A CMP后清洗设备清洗刷惰轴结构及使用方法 公开/授权日:2017-04-26