- 专利标题: 一种石墨烯薄膜基底的处理液、处理方法及石墨烯薄膜的制备方法
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申请号: CN201610879056.8申请日: 2016-10-08
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公开(公告)号: CN106587038B公开(公告)日: 2019-05-24
- 发明人: 秦喜超 , 杨军 , 谭化兵
- 申请人: 无锡格菲电子薄膜科技有限公司 , 无锡第六元素电子薄膜科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省无锡市惠山经济开发区长安工业园标准厂房中惠路518-5号
- 专利权人: 无锡格菲电子薄膜科技有限公司,无锡第六元素电子薄膜科技有限公司
- 当前专利权人: 无锡格菲电子薄膜科技有限公司,常州第六元素半导体有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省无锡市惠山经济开发区长安工业园标准厂房中惠路518-5号
- 代理机构: 北京世衡知识产权代理事务所
- 代理商 肖淑芳
- 主分类号: C01B32/194
- IPC分类号: C01B32/194 ; H01B5/14 ; H01B1/04 ; H01L31/0224 ; G02F1/1343
摘要:
本发明公开了一种石墨烯薄膜基底的处理液及其制备方法、石墨烯薄膜基底的处理方法和石墨烯薄膜的制备方法,所述石墨烯薄膜基底的处理液采用多巴胺盐酸盐的水或乙醇溶液,其浓度为0.01‑1wt%。多巴胺盐酸盐可以有效地溶解在醇类、水或其他溶剂中。将目标基底在其溶液中浸泡一段时间后,通过增压或加热的方式与石墨烯/基底/石墨烯贴合或者与胶膜/石墨烯的石墨烯面贴合。前者需要将金属基底刻蚀而后形成目标基底/聚合物/石墨烯结构,后者只需揭去胶膜便可形成目标基底/聚合物/石墨烯。该聚合物能够使目标基底与石墨烯之间的附着力大幅度增加的同时解决因转移问题带来的方阻上升和方阻均匀性问题。
公开/授权文献
- CN106587038A 一种石墨烯薄膜基底的处理液、处理方法及石墨烯薄膜的制备方法 公开/授权日:2017-04-26