Invention Grant
- Patent Title: 真空蒸镀装置
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Application No.: CN201510764098.2Application Date: 2015-11-11
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Publication No.: CN106676475BPublication Date: 2019-09-03
- Inventor: 魏洋 , 魏浩明 , 姜开利 , 范守善
- Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- Applicant Address: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- Assignee: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- Current Assignee: 清华大学,鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
- Current Assignee Address: 北京市海淀区清华大学清华-富士康纳米科技研究中心401室
- Main IPC: C23C14/24
- IPC: C23C14/24
Abstract:
本发明提供一种真空蒸镀装置,包括蒸发源、待镀基底及真空室,该蒸发源及待镀基底设置在该真空室中,该蒸发源包括蒸发材料、碳纳米管膜结构、第一电极及第二电极,该第一电极及第二电极相互间隔并分别与该碳纳米管膜结构电连接,该碳纳米管膜结构为一载体,该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面,通过该碳纳米管膜结构承载,该待镀基底与该碳纳米管膜结构相对且间隔设置。
Public/Granted literature
- CN106676475A 真空蒸镀装置 Public/Granted day:2017-05-17
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IPC分类: