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真空蒸镀装置
Abstract:
本发明提供一种真空蒸镀装置,包括蒸发源、待镀基底及真空室,该蒸发源及待镀基底设置在该真空室中,该蒸发源包括蒸发材料、碳纳米管膜结构、第一电极及第二电极,该第一电极及第二电极相互间隔并分别与该碳纳米管膜结构电连接,该碳纳米管膜结构为一载体,该蒸发材料设置在该碳纳米管膜结构表面,通过该碳纳米管膜结构承载,该待镀基底与该碳纳米管膜结构相对且间隔设置。
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