发明公开
- 专利标题: 用于高TG聚酰亚胺覆铜板的添加剂材料配方
- 专利标题(英): Formula of additive material for polyimide copper clad laminates with high TG
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申请号: CN201611268681.5申请日: 2016-12-31
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公开(公告)号: CN106753135A公开(公告)日: 2017-05-31
- 发明人: 孙茂云
- 申请人: 铜陵华科电子材料有限公司
- 申请人地址: 安徽省铜陵市经济开发区翠湖四路3708号
- 专利权人: 铜陵华科电子材料有限公司
- 当前专利权人: 铜陵华科电子材料有限公司
- 当前专利权人地址: 安徽省铜陵市经济开发区翠湖四路3708号
- 主分类号: C09J163/00
- IPC分类号: C09J163/00 ; C09J11/04 ; C09J11/08 ; B32B15/14 ; B32B15/20 ; B32B17/02 ; B32B17/06 ; B32B7/10
摘要:
本发明公开了一种用于高TG聚酰亚胺覆铜板的添加剂材料配方,通过将添加剂由氢氧化铝粉末、二甲基甲酰胺、氢氧化镁粉末、聚乙烯吡咯烷酮、聚乙烯醇、氢氧化钙粉末以及聚丙烯酰胺组成,并将这些种类的添加剂按照适当的比例配制好在高温下熔融搅拌混合而成,将得到的添加剂运用到聚酰亚胺覆铜板的生产工艺当中,这种类型的添加剂在使用时一方面和环氧树脂的混溶性很好,另一方面弥补了酚醛固化的韧性较差的缺点,因此产品在热态下电性能很好,能够提高其常温下的稳定性。