发明授权
- 专利标题: 光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法
-
申请号: CN201710001816.X申请日: 2017-01-03
-
公开(公告)号: CN106772735B公开(公告)日: 2019-04-05
- 发明人: 孙含嫣 , 刘建涛 , 许晓春 , 王俊伟 , 陈维涛 , 朴仁镐
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 滕一斌
- 主分类号: G02B5/18
- IPC分类号: G02B5/18 ; G02B27/22
摘要:
本发明公开了一种光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法,属于显示技术领域。该光栅包括:第一透明电极层;第一透明电极层上设置有阵列排布的多个光栅结构,每个光栅结构包括透过率变化膜和设置在透过率变化膜相对的两端且分别与两端连接的两个电致伸缩块;设置在第一透明电极层上的每个光栅结构上设置有第二透明电极。本发明通过设置的第一透明电极层和光栅结构上的第二透明电极,能够向透过率变化膜两端的电致伸缩块施加电压,电致伸缩块在电压的作用下会产生形变,使透过率变化膜透明或不透明,这样就能够在光栅上需要的位置形成透明的狭缝,解决了相关技术的光栅中狭缝的位置固定,难以调整的问题。达到了能够调整光栅中狭缝位置的效果。
公开/授权文献
- CN106772735A 光栅及其制造方法、显示装置及其控制方法 公开/授权日:2017-05-31