发明授权
- 专利标题: 一种发光二极管的外延片及其制作方法
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申请号: CN201611057810.6申请日: 2016-11-24
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公开(公告)号: CN106784210B公开(公告)日: 2019-03-01
- 发明人: 马欢
- 申请人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 申请人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村(浙江四达工具有限公司内)
- 专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人: 华灿光电(浙江)有限公司
- 当前专利权人地址: 浙江省金华市义乌市苏溪镇徐丰村(浙江四达工具有限公司内)
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 徐立
- 主分类号: H01L33/06
- IPC分类号: H01L33/06 ; H01L33/14 ; H01L33/32 ; H01L33/00
摘要:
本发明公开了一种发光二极管的外延片及其制作方法,属于半导体技术领域。所述外延片包括衬底、以及依次层叠在所述衬底上的缓冲层、非掺杂GaN层、N型层、多量子阱层、第一空穴注入层、电子阻挡层、第二空穴注入层,所述第一空穴注入层包括交替层叠的P型AlInGaN层和P型InGaN层,所述电子阻挡层为AlGaN层,所述第二空穴注入层为间隔插入InN层的P型GaN层。本发明通过形成第一空穴注入层和第二空穴注入层时通入的In源分解后的富In气氛,降低P型掺杂剂中Mg掺杂的激活能,提高第一空穴注入层和第二空穴注入层中的空穴浓度,提高多量子阱层中空穴和电子的辐射复合效率,提升发光二极管的发光效率。
公开/授权文献
- CN106784210A 一种发光二极管的外延片及其制作方法 公开/授权日:2017-05-31
IPC分类: