Invention Grant
- Patent Title: 一种光阻涂布装置及喷嘴
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Application No.: CN201710071174.0Application Date: 2017-02-09
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Publication No.: CN106938222BPublication Date: 2019-03-22
- Inventor: 何恒忠
- Applicant: 武汉华星光电技术有限公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee: 武汉华星光电技术有限公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市东湖开发区高新大道666号生物城C5栋
- Agency: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- Agent 黄威
- Main IPC: B05B1/00
- IPC: B05B1/00 ; B05B1/30 ; G03F7/16
Abstract:
本发明提供一种光阻涂布装置及喷嘴,所述喷嘴包括内部形成有一空腔的喷嘴本体,所述空腔设置有注入孔、排气孔以及排出孔;所述空腔包括顶部、底部以及位于所述顶部和所述底部之间的侧部,其中所述排气孔位于所述空腔的顶部,用于将所述空腔内的气体排出,所述注入孔位于所述空腔的侧部且靠近所述空腔的底部,或者所述注入孔位于所述空腔的底部,用于注入光阻液。通过上述方式,本发明能够将喷嘴内的空气尽可能地排出,能够减少因喷嘴内的气泡而造成产品不良的现象,提高产品良率。
Public/Granted literature
- CN106938222A 一种光阻涂布装置及喷嘴 Public/Granted day:2017-07-11
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