- 专利标题： 光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法
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申请号： CN201710059375.9申请日： 2017-01-24
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公开(公告)号： CN107015341B公开(公告)日： 2020-08-21
- 发明人: 西川原朋史 , 木村一贵 , 矢田裕纪
- 申请人： 佳能株式会社
- 申请人地址： 日本东京都大田区下丸子3-30-2
- 专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人： 佳能株式会社
- 当前专利权人地址： 日本东京都大田区下丸子3-30-2
- 代理机构： 北京怡丰知识产权代理有限公司
- 代理商 迟军
- 优先权： 2016-013620 2016.01.27 JP
- 主分类号： G02B7/18
- IPC分类号： G02B7/18 ; G03F7/20
摘要：
本发明涉及光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法。提供了一种用于使反射镜的反射面变形的可变形反射镜设备，该设备包括：音圈电机，其具有在与反射面相对的面上安装的磁体和在面对磁体的位置处布置的线圈；保持线圈的基准底座；传热杆，其连接到在基准底座中保持的线圈；以及收集来自传热杆的热量的流路。传热杆在与连接到线圈的端部相对的导热单元的端部处具有自由端。
公开/授权文献
- CN107015341A 光学设备、投影光学系统、曝光装置及物品制造方法 公开/授权日：2017-08-04
