- 专利标题: 一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备
- 专利标题(英): Magnetron sputtering continuous coating device for micro-nano powder
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申请号: CN201610070634.3申请日: 2016-02-01
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公开(公告)号: CN107022743A公开(公告)日: 2017-08-08
- 发明人: 唐晓峰 , 逯琪 , 董建廷 , 李大铭 , 张文彬 , 雷芝红
- 申请人: 上海朗亿功能材料有限公司
- 申请人地址: 上海市松江区永航路188弄1号
- 专利权人: 上海朗亿功能材料有限公司
- 当前专利权人: 上海朗亿功能材料有限公司
- 当前专利权人地址: 上海市松江区永航路188弄1号
- 主分类号: C23C14/35
- IPC分类号: C23C14/35 ; C23C14/56
摘要:
本发明涉及一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备,包括真空腔体(1)、输送带(2)、旋转振动装置(3)、连续下料装置(10)、磁控溅射装置(11)、收料仓(12)和储料仓(13),其中旋转振动装置包括旋转振动杆(4)、传动杆(5)、联轴器(6)、密封件(7)、法兰(8)和转动电机(9)。该设备可将转动电机(9)放置于真空腔体(1)外部,避免磁场、电场、温度对电机的影响,增加设备的工艺稳定性及使用寿命,同时利用转动电机(9)和旋转振动杆(4)带动输送带(2)振动,实现输送带上表面粉体抖动,保证粉体镀膜均一性。
公开/授权文献
- CN107022743B 一种用于微纳米粉体的磁控溅射连续镀膜设备 公开/授权日:2019-04-02
IPC分类: