发明授权
CN107051979B 一种紫外光清洗基板的方法及系统
失效 - 权利终止
- 专利标题： 一种紫外光清洗基板的方法及系统
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申请号： CN201710322442.1申请日： 2017-05-09
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公开(公告)号： CN107051979B公开(公告)日： 2020-08-07
- 发明人: 井杨坤 , 丁甲 , 赵卓寒
- 申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
- 申请人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人： 京东方科技集团股份有限公司,合肥京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址： 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构： 北京同达信恒知识产权代理有限公司
- 代理商 郭润湘
- 主分类号： B08B7/00
- IPC分类号： B08B7/00 ; B08B11/04
摘要：
本申请提供了一种紫外光清洗基板的方法及系统，用以在有效去除黏附于基板表面的有机物时不损伤基板，本申请提供的一种紫外光清洗基板的方法包括：将基板划分为至少两个区域，检测所述基板上各个区域的有机物残留量并确定各个区域的位置；根据所述各个区域的有机物残留量，确定清洗各个区域的紫外光辐射量；根据确定的清洗各个区域的紫外光辐射量和各个区域的位置，清洗所述基板。
公开/授权文献
- CN107051979A 一种紫外光清洗基板的方法及系统 公开/授权日：2017-08-18
