- 专利标题: 高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图分析与校正方法
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申请号: CN201710442950.3申请日: 2017-06-13
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公开(公告)号: CN107101723B公开(公告)日: 2018-05-01
- 发明人: 李宏伟 , 曹海霞 , 何淼 , 赵英飞
- 申请人: 钢研纳克检测技术股份有限公司
- 申请人地址: 北京市海淀区高粱桥斜街13号
- 专利权人: 钢研纳克检测技术股份有限公司
- 当前专利权人: 钢研纳克检测技术股份有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市海淀区高粱桥斜街13号
- 代理机构: 北京中安信知识产权代理事务所
- 代理商 李彬; 张小娟
- 主分类号: G01J3/443
- IPC分类号: G01J3/443
摘要:
本发明属于光谱技术领域,特别涉及的一种高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图的分析与校正方法。该方法包括如下步骤:步骤一,获得中阶梯光栅光谱仪的二维谱图;步骤二,对获得的二维谱图进行判读;步骤三,反演棱镜参数的偏差量和/或中阶梯光栅参数的偏差量;步骤四,对中阶梯光栅光谱仪的二维偏差谱图进行校正。本发明方法能够实现二维偏差谱图的定性分析及定量计算,同时能够实现二维偏差谱图的校正工作,对二维偏差谱图进行分析并校正后,能够充分发挥中阶梯光栅光谱仪高光谱分辨率、高灵敏度、低检出限等优势,同时该校正方法仅需对装调工装做微小改变,具有操作简单、易于实现等优点。
公开/授权文献
- CN107101723A 高分辨率中阶梯光栅光谱仪二维偏差谱图分析与校正方法 公开/授权日:2017-08-29