发明公开
- 专利标题: 一种简易的射流电沉积实验系统及控制方法
- 专利标题(英): Simple jet flow electro-deposition experiment system and control method
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申请号: CN201611156135.2申请日: 2016-12-14
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公开(公告)号: CN107130272A公开(公告)日: 2017-09-05
- 发明人: 范晖 , 赵阳培 , 王善奎 , 周连佺 , 田宗军 , 邢邦圣 , 马军
- 申请人: 江苏师范大学
- 申请人地址: 江苏省徐州市铜山区上海路101号
- 专利权人: 江苏师范大学
- 当前专利权人: 江苏师范大学
- 当前专利权人地址: 江苏省徐州市铜山区上海路101号
- 主分类号: C25D5/08
- IPC分类号: C25D5/08 ; C25D21/12 ; C25D17/00
摘要:
一种简易的射流电沉积实验系统及控制方法,该装置如下:电解槽安装在机床工作台上,阳极腔与喷嘴通过组合夹具悬在阳极腔与喷嘴电解槽上方,数控操作面板通过调节喷嘴高度用螺杆安装在组合夹具上,耐腐蚀泵进水口一端通过水管连接电解液回收罐,耐腐蚀泵出水口一端通过调速阀和浮子流量计连接阳极腔与喷嘴的入水口,电解槽通过回流管与电解液回收罐连接。本发明以现有的商用数控机床作为实验平台载体,以数控平台实现射流电沉积扫描距离、层数、路径的控制,能实现三维立体加工,可进行涂层和微型器件的加工制作,投入成本经济,设计和制造简便,取材方便。
公开/授权文献
- CN107130272B 一种简易的射流电沉积实验系统 公开/授权日:2018-10-30