- 专利标题: 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法
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申请号: CN201710270946.3申请日: 2017-04-24
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公开(公告)号: CN107201034B公开(公告)日: 2019-10-18
- 发明人: 宋伟杰 , 张景 , 张贤鹏 , 鲁越晖 , 艾玲 , 李啸
- 申请人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 申请人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人: 中国科学院宁波材料技术与工程研究所
- 当前专利权人地址: 浙江省宁波市镇海区庄市大道519号
- 代理机构: 杭州天勤知识产权代理有限公司
- 代理商 刘诚午
- 主分类号: C08L79/08
- IPC分类号: C08L79/08 ; C08L33/12 ; C08L63/00 ; C08L69/00 ; C08L67/02 ; C08L61/16 ; C08K9/10 ; C08K7/26 ; C08K3/36 ; C08J5/18 ; C08J7/04 ; C08J7/06
摘要:
本发明公开了一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜,所述聚合物复合薄膜包括聚合物薄膜层和镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层,通过在所述聚合物薄膜层的至少一面均匀镶嵌空心SiO2纳米粒子,在聚合物薄膜层表面形成所述镶嵌有空心SiO2纳米粒子的有机无机复合层。还公开了所述聚合物复合薄膜的制备方法,包括:依次在刚性基材上制备空心SiO2纳米粒子层和聚合物薄膜层,固化后剥离刚性基材,得到单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜,在单面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜的基础上可进一步制备双面镶嵌空心SiO2纳米粒子的聚合物复合薄膜。所得聚合物复合薄膜能同时实现增透与抗原子氧剥蚀的性能,制备操作简单。
公开/授权文献
- CN107201034A 一种增透与抗原子氧剥蚀的聚合物复合薄膜及其制备方法 公开/授权日:2017-09-26