• Patent Title: 一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置
  • Patent Title (English): Cluster-type large-plane polishing device based on magneto-rheological effect
  • Application No.: CN201710628330.9
    Application Date: 2017-07-23
  • Publication No.: CN107225441A
    Publication Date: 2017-10-03
  • Inventor: 张广
  • Applicant: 张广
  • Applicant Address: 浙江省温州市瑞安市永安乡永胜村
  • Assignee: 张广
  • Current Assignee: 张广
  • Current Assignee Address: 浙江省温州市瑞安市永安乡永胜村
  • Main IPC: B24B1/00
  • IPC: B24B1/00 B24B31/10 B24B27/00
一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置
Abstract:
本发明涉及一种基于磁流变效应的集群式大平面抛光装置,装置包括工件、定位轮、抛光轮、磁流变液、磨粒、永久磁铁、轴承座、球轴承、转轴、电机、高压喷头、泵、刮块、容器。定位轮有两个,其半径比抛光轮大2mm,其轮廓侧表面直接与工件表面接触,定位轮和抛光轮固定在转轴上,转轴两端通过球轴承与轴承座连接,由电机带动旋转;抛光轮根据工件尺寸分配若干,每个抛光轮分配四个永久磁铁,每个永久磁铁磁极异极排列,相连抛光轮磁极同极排列;磁流变液和磨粒组成抛光液,抛光液通过泵将容箱出口b的抛光液经过高压喷头引流到抛光区域,刮块将抛光轮表面的抛光液由入口a回收到容器中,容器成凹形结构,且回收入口a开口较大,出口b开口较小。
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