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发明公开
CN107250423A 蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法 失效 - 放弃专利权

  • 专利标题： 蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法
  • 专利标题（英）： Vapor deposition unit, vapor deposition device, and vapor deposition method
  • 申请号： CN201680010578.2
    申请日： 2016-02-18
  • 公开(公告)号： CN107250423A
    公开(公告)日： 2017-10-13
  • 发明人: 小林勇毅 , 川户伸一
  • 申请人： 夏普株式会社
  • 申请人地址： 日本国大阪府堺市堺区匠町1番地
  • 专利权人： 夏普株式会社
  • 当前专利权人： 夏普株式会社
  • 当前专利权人地址： 日本国大阪府堺市堺区匠町1番地
  • 代理机构： 深圳市赛恩倍吉知识产权代理有限公司
  • 代理商 汪飞亚
  • 优先权： 2015-035329 20150225 JP
  • 国际申请： PCT/JP2016/054746 2016.02.18
  • 国际公布： WO2016/136595 JA 2016.09.01
  • 进入国家日期： 2017-08-23
  • 主分类号： C23C14/24
  • IPC分类号： C23C14/24 ;  H01L51/50 ;  H05B33/10
蒸镀单元、蒸镀装置及蒸镀方法
摘要：
本发明提供一种蒸镀单元(1)，包含：蒸镀掩膜(10)、具有限制板(22)的限制板单元(20)及蒸镀源(30)。蒸镀源(30)俯视时具有：分别设置在限制板(22)间的限制板开口(23)间的用于蒸镀颗粒射出的多个第一开口部(31)及设置在不与限制限制板开口(23)相对的位置的至少一个用于泄压的第二开口部(32)。
摘要（英）：

Provided is a vapor deposition unit (1) equipped with a vapor deposition mask (10), a restricting plate unit (20) having restricting plates (22), and a vapor deposition source (30). The vapor deposition source (30), seen in plane view, has: a plurality of first openings (31) which eject vapor deposition particles and which are each provided at a location facing a restricting plate opening (23) between the restricting plates (22); and at least one second opening (32) for pressure relief, which is provided at a location not facing the restricting plate opening (23).

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