发明授权
摘要:
本发明公开了一种超薄多孔Co纳米片的制备方法,该方法先以氯化钴和六氰钴酸钾为前躯体制备氰胶,然后以硼氢化钠为还原剂,采用在水溶液中加热的方法即可将氰胶还原成形状规则、尺寸均一的超薄多孔Co纳米片。本发明制备方法简单、经济,适合工业化大规模生产,且所得超薄多孔Co纳米片具有良好稳定性和水溶性,在碱性氢氧化钾溶液中具有很好的OER催化活性和稳定性,在电化学方面具有很好的应用前景。
公开/授权文献
- CN107308940A 一种超薄多孔Co纳米片的制备方法 公开/授权日:2017-11-03