- 专利标题: 原子层沉积装置及具有孔状结构的基材的原子层沉积方法
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申请号: CN201710561488.9申请日: 2017-07-11
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公开(公告)号: CN107313028B公开(公告)日: 2023-10-10
- 发明人: 曹耀辉 , 陈建桥 , 刘然
- 申请人: 秦皇岛博硕光电设备股份有限公司
- 申请人地址: 河北省秦皇岛市海港区北部工业园区揽月街33号
- 专利权人: 秦皇岛博硕光电设备股份有限公司
- 当前专利权人: 秦皇岛博硕光电设备股份有限公司
- 当前专利权人地址: 河北省秦皇岛市海港区北部工业园区揽月街33号
- 代理机构: 北京一格知识产权代理事务所
- 代理商 赵俊宏
- 主分类号: C23C16/455
- IPC分类号: C23C16/455
摘要:
本发明涉及ALD沉积技术领域,特别涉及用原子层沉积方法对木材、竹材等具有孔状结构的基材进行加工时用的原子层沉积装置及具有孔状结构的基材的原子层沉积方法,本原子层沉积装置,包括沉积腔(7),沉积腔的内侧表面与所沉积的基材的外侧表面的外形和尺寸相匹配,这种具有孔状结构的基材的原子层沉积方法,是将基材设置在沉积腔内,使基材的设置有孔的一端面与沉积腔的进气口相对,通过进气口向基材的孔内通入原子层沉积用的反应气体,将原子层至少沉积在基材的孔内,采用本发明原子层沉积装置及具有孔状结构的基材的原子层沉积方法使得加快了反应气体的流动速度,提高沉积的效率,反应气体用量少,成本低。
公开/授权文献
- CN107313028A 原子层沉积装置及具有孔状结构的基材的原子层沉积方法 公开/授权日:2017-11-03
IPC分类: