发明公开
CN107324393A 金属氢氧化物插层一维纳米金属氧化物、制法及抽离方法
失效 - 权利终止
- 专利标题: 金属氢氧化物插层一维纳米金属氧化物、制法及抽离方法
- 专利标题(英): Metal hydroxide intercalated one-dimensional nano-metal oxide as well as preparation method and extraction method thereof
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申请号: CN201710541795.0申请日: 2017-07-05
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公开(公告)号: CN107324393A公开(公告)日: 2017-11-07
- 发明人: 周晨亮 , 刘全生 , 智科端 , 李莉丽 , 张乾 , 王亚雄 , 赫文秀
- 申请人: 内蒙古科技大学 , 内蒙古工业大学
- 申请人地址: 内蒙古自治区包头市阿尔丁大街7号
- 专利权人: 内蒙古科技大学,内蒙古工业大学
- 当前专利权人: 内蒙古科技大学,内蒙古工业大学
- 当前专利权人地址: 内蒙古自治区包头市阿尔丁大街7号
- 代理机构: 西安铭泽知识产权代理事务所
- 代理商 俞晓明
- 主分类号: C01G45/02
- IPC分类号: C01G45/02 ; C01G53/04 ; C01G9/02 ; C01G3/02 ; C01G45/00 ; C01G53/00 ; B82Y40/00 ; B82Y30/00
摘要:
本发明公开了一种结构可逆转换一维锰氧化物及其插层金属氢氧化物的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。本发明利用金属氧化物的一维结构稳定性特性,制备出一维纳米结构金属氧化物,再通过在一维纳米结构金属氧化物中插入金属氢氧化物的方法制备出插层材料,最后通过氨水将金属氢氧化物置换出来使得一维纳米金属氧化物得以恢复。本发明首次开发出用氨水抽取金属氢氧化物使一维纳米金属氧化物得以复原的方法。该方法工艺简单,成本低廉,可以实现工业化大规模生产。
公开/授权文献
- CN107324393B 金属氢氧化物插层一维纳米金属氧化物、制法及抽离方法 公开/授权日:2019-06-07
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