• Patent Title: 一种基于磁流变效应的工件局部高精度抛光装置
  • Patent Title (English): Workpiece partial high-precision polishing device based on magneto-rheological effect
  • Application No.: CN201710628391.5
    Application Date: 2017-07-23
  • Publication No.: CN107378648A
    Publication Date: 2017-11-24
  • Inventor: 张广
  • Applicant: 张广
  • Applicant Address: 浙江省温州市瑞安市永安乡永胜村
  • Assignee: 张广
  • Current Assignee: 张广
  • Current Assignee Address: 浙江省温州市瑞安市永安乡永胜村
  • Main IPC: B24B1/00
  • IPC: B24B1/00 B24B29/02
一种基于磁流变效应的工件局部高精度抛光装置
Abstract:
本发明涉及一种基于磁流变效应的工件局部高精度抛光装置,装置包括电机、联轴器、转轴、透明容箱、抛光轮、永久磁铁、移动轴承座、抛光台、工件、抛光液、高压喷嘴、泵、法向力传感器。抛光轮与转轴连接,并通过联轴器由电机带动,转轴悬置在移动轴承座上,移动轴承座安装在透明容箱内部;抛光台置于透明容箱中央,工件置于抛光台上,抛光台内部嵌入法向力传感器,抛光轮与工件抛光面之间距离为2mm;抛光轮上装有两个永久磁铁,两个永久磁铁异极排列,泵置于透明容箱内部的与工件表面抛光方向相反的端角区域;抛光液由水基磁流变液与抛光磨料组成,磁流变液为铁粉的质量分数81.83%的水基磁流变液,铁粉直径在2-8μm,磨料为形状不规则的Al2O3颗粒。
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