Invention Grant
- Patent Title: 一种金属掩膜制备方法
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Application No.: CN201610339907.XApplication Date: 2016-05-20
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Publication No.: CN107414306BPublication Date: 2019-07-23
- Inventor: 高志豪
- Applicant: 上海和辉光电有限公司
- Applicant Address: 上海市金山区金山工业区九工路1568号
- Assignee: 上海和辉光电有限公司
- Current Assignee: 上海和辉光电股份有限公司
- Current Assignee Address: 上海市金山区金山工业区九工路1568号
- Agency: 上海申新律师事务所
- Agent 俞涤炯
- Main IPC: G03F1/00
- IPC: G03F1/00 ; B23K26/36 ; B23K26/60
Abstract:
本发明涉及掩膜板制造领域,尤其涉及一种金属掩膜制备方法,通过激光加工图形方式取代传统的黄光与蚀刻工艺,即以皮秒级激光加工开口区,通过单面加工方式来避免传统双面加工生产方式所产生的累计误差,进而使得加工精度远远高于传统生产流程中采用曝光/显影/蚀刻的累计精度;并可通过调整激光入射角来满足金属掩膜所需的蒸镀角度需求;同时还避免了高额设备投资与厂区建设费用。
Public/Granted literature
- CN107414306A 一种金属掩膜制备方法 Public/Granted day:2017-12-01
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