- 专利标题: 禁带宽度可调的CdTexSe1-x半导体薄膜及其制备方法和应用
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申请号: CN201710568781.8申请日: 2017-07-13
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公开(公告)号: CN107452834B公开(公告)日: 2019-05-14
- 发明人: 沈凯 , 麦耀华
- 申请人: 暨南大学
- 申请人地址: 广东省广州市黄埔大道西601号
- 专利权人: 暨南大学
- 当前专利权人: 暨南大学
- 当前专利权人地址: 广东省广州市黄埔大道西601号
- 代理机构: 广州市华学知识产权代理有限公司
- 代理商 苏运贞; 刘瑜
- 主分类号: H01L31/18
- IPC分类号: H01L31/18 ; H01L31/0296
摘要:
本发明公开了一种禁带宽度可调的CdTexSe1‑x半导体薄膜及其制备方法和应用。该薄膜的制备方法包括如下步骤:(1)将Cd源、Te源和Se源溶解到溶剂中,得到镉碲硒前驱液,其中,溶剂为乙二胺与硫醇的混合溶液;(2)将步骤(1)中得到的镉碲硒前驱液涂覆到衬底上,得到CdTexSe1‑x前驱体薄膜;(3)将步骤(2)中得到的CdTexSe1‑x前驱体薄膜进行热处理,冷却,得到禁带宽度可调的CdTexSe1‑x半导体薄膜;(4)到此终止;或是步骤(2)~(3)往复循环。利用本发明的方法可制备得到具有梯度带隙的半导体薄膜,将其应用于CdTe薄膜太阳电池,能改善电池长波段的光吸收,提高电池的光电转换效率。
公开/授权文献
- CN107452834A 禁带宽度可调的CdTexSe1-x半导体薄膜及其制备方法和应用 公开/授权日:2017-12-08
IPC分类: