发明公开
- 专利标题: 一种蒸镀机台装置
- 专利标题(英): Evaporation machine table device
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申请号: CN201710699880.X申请日: 2017-08-16
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公开(公告)号: CN107460441A公开(公告)日: 2017-12-12
- 发明人: 蒋谦 , 陈永胜
- 申请人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 申请人地址: 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
- 专利权人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
- 代理机构: 深圳翼盛智成知识产权事务所
- 代理商 黄威
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24 ; C23C14/04 ; C23C14/56
摘要:
本发明提出了一种蒸镀机台装置,所述装置包括至少两个基板清洗机单元、常压腔体以及真空腔集合体;其中,所述基板清洗机单元与所述真空腔集合体之间设置常压腔体,所述常压腔体包括常压金属掩膜板补偿测试腔和常压金属掩膜板装载腔。有益效果:所述蒸镀机台在正常作业与所述金属掩膜板补偿测试作业之间的转换时,所述蒸镀机台装置能直接在所述常压腔体中进行金属掩膜板补偿测试作业,所述基板无需等待某一腔体的大气环境与真空环境之间的相互转换,大大缩短了金属掩膜板补偿测试作业时间,并延长了蒸镀机台的有效作业(制作产品或制作器件)的时间,提高了蒸镀线的工作效率,同时也节省了机台真空资源。
公开/授权文献
- CN107460441B 一种蒸镀机台装置 公开/授权日:2020-01-14
IPC分类: