发明授权
- 专利标题： 形成精细图案的方法
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申请号： CN201710431512.7申请日： 2017-06-06
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公开(公告)号： CN107479125B公开(公告)日： 2021-09-10
- 发明人: 郭恩爱 , 康珉赫 , 赵国来
- 申请人： 三星显示有限公司
- 申请人地址： 韩国京畿道龙仁市
- 专利权人： 三星显示有限公司
- 当前专利权人： TCL华星光电技术有限公司
- 当前专利权人地址： 韩国京畿道龙仁市
- 代理机构： 北京铭硕知识产权代理有限公司
- 代理商 刘灿强; 田野
- 优先权： 10-2016-0070404 20160607 KR
- 主分类号： G02B5/30
- IPC分类号： G02B5/30 ; G03F7/00
摘要：
提供了一种形成精细图案的方法，所述方法包括以下步骤：在基体部上形成导电层；在导电层上形成包括粘附材料的牺牲层，粘附材料包括邻苯二酚基；在牺牲层上形成抗蚀图案；以及通过使用抗蚀图案作为掩模使导电层图案化来形成精细图案。
公开/授权文献
- CN107479125A 形成精细图案的方法 公开/授权日：2017-12-15