发明授权
- 专利标题: 用于制造偏光膜的方法
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申请号: CN201710480388.3申请日: 2017-06-22
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公开(公告)号: CN107505669B公开(公告)日: 2020-01-07
- 发明人: 陈志耕 , 陈泓壬 , 叶世雄
- 申请人: 住华科技股份有限公司
- 申请人地址: 中国台湾台南市善化区环东路2段32号
- 专利权人: 住华科技股份有限公司
- 当前专利权人: 住华科技股份有限公司
- 当前专利权人地址: 中国台湾台南市善化区环东路2段32号
- 代理机构: 北京律诚同业知识产权代理有限公司
- 代理商 梁挥; 鲍俊萍
- 优先权: 106117066 2017.05.23 TW
- 主分类号: G02B5/30
- IPC分类号: G02B5/30
摘要:
一种用于制造偏光膜的方法,包括使一偏光膜前驱物依序通过多个处理槽,以形成一偏光膜。此种方法更包括对于该多个处理槽中的至少一处理槽,在偏光膜前驱物通过该处理槽时进行一总有机碳量监控程序,并且,在处理槽中的槽液的总有机碳量超过该处理槽的一监控值时进行一槽液调整程序,将处理槽中的槽液的总有机碳量降低至小于等于监控值,其中,该监控值小于等于800ppm。本发明用于制造偏光膜的方法中包括监控程序,以提升偏光膜及由其形成的偏光板的品质。
公开/授权文献
- CN107505669A 用于制造偏光膜的方法 公开/授权日:2017-12-22