发明公开
CN107544093A 井约束的构造解释层深度系统校正方法
无效 - 撤回
- 专利标题: 井约束的构造解释层深度系统校正方法
- 专利标题(英): Well-constrained structural interpretation layer depth system correction method
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申请号: CN201610496754.X申请日: 2016-06-29
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公开(公告)号: CN107544093A公开(公告)日: 2018-01-05
- 发明人: 姜瑞波 , 王永诗 , 马立驰 , 孙超 , 赵约翰 , 辛也 , 孙耀庭 , 谢传金 , 张悦 , 许淑芳 , 鲍倩倩 , 毕俊凤 , 王亚琳 , 熊伟 , 杨贵丽 , 许晓凤 , 魏晓燕
- 申请人: 中国石油化工股份有限公司 , 中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司勘探开发研究院
- 申请人地址: 山东省东营市东营区济南路125号
- 专利权人: 中国石油化工股份有限公司,中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司勘探开发研究院
- 当前专利权人: 中国石油化工股份有限公司,中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司勘探开发研究院
- 当前专利权人地址: 山东省东营市东营区济南路125号
- 代理机构: 济南日新专利代理事务所
- 代理商 崔晓艳
- 主分类号: G01V1/36
- IPC分类号: G01V1/36
摘要:
本发明提供一种井约束的构造解释层深度系统校正方法,该井约束的构造解释层深度系统校正方法包括:步骤1,根据已钻井的测井资料,进行地震层位解释;步骤2,进行断层解释,在地震剖面上完成解释后在平面上进行断层组合;步骤3,对解释好的层位进行初步的构造成图;步骤4,初步构造成图之后,利用已钻井实际深度进行误差校正,从而得到相对精确的构造图。该井约束的构造解释层深度系统校正方法有效的解决了构造图与实钻井深度不匹配,构造特征与实际差异大的问题,特别对于高勘探程度地区具有重要意义,本发明简单实用,可操作性强,具有较好的推广前景。