发明公开
CN107552362A 保护膜形成方法及设备
审中-实审
- 专利标题: 保护膜形成方法及设备
- 专利标题(英): Protective film forming method and equipment
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申请号: CN201710749359.2申请日: 2017-08-28
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公开(公告)号: CN107552362A公开(公告)日: 2018-01-09
- 发明人: 金学权 , 刘永帅 , 张雪锋 , 汪正红
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 成都京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,成都京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 彭瑞欣; 张天舒
- 主分类号: B05D7/00
- IPC分类号: B05D7/00 ; B05D3/00 ; B05D3/02 ; B05D1/02 ; B05B13/04
摘要:
本发明提供一种保护膜形成方法,包括以下步骤:将保护膜材料涂布在待形成器件上;在采用固化装置固化所述保护膜材料的同时采用压合装置给所述保护膜材料的上表面施加压合力,形成所述保护膜。本发明还提供一种保护膜形成设备。本发明可以现场制作保护膜,从而可以随时调整尺寸、减少工艺时间且提高产品良率。