- 专利标题: 一种纳米银喷墨打印墨滴边界对齐优化方法及打印机
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申请号: CN201710598115.9申请日: 2017-07-20
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公开(公告)号: CN107554076B公开(公告)日: 2019-09-20
- 发明人: 黄进 , 孟凡博 , 王建军 , 赵家勇 , 刘大川 , 赵鹏兵
- 申请人: 西安电子科技大学
- 申请人地址: 陕西省西安市太白南路2号西安电子科技大学
- 专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人: 西安电子科技大学
- 当前专利权人地址: 陕西省西安市太白南路2号西安电子科技大学
- 代理机构: 西安长和专利代理有限公司
- 代理商 黄伟洪
- 主分类号: B41J2/11
- IPC分类号: B41J2/11 ; B41J2/045
摘要:
本发明属于喷墨打印微制造技术领域,公开了一种纳米银喷墨打印墨滴边界对齐优化方法及打印机,包括:根据测量不同压电喷头负压值与喷出纳米银墨滴半径的关系,拟合获得负压与墨滴间距的关系方程;将在计算机中确定模型表面打印模型中的待打印部分,将待打印部分分离,保存成STL格式;根据带有喷射区间指令的G代码,计算开始打印起始坐标和打印区间长度,根据墨滴半径对打印长度进行墨滴半径补偿,并存入打印长度变量中;根据优化的打印长度和墨滴半径确定打印时墨滴间距,进行墨滴落点初规划;打印导电图形表面;将所有执行代码执行完成,获得导电图形。根据不同基材,调整负压以改变墨滴大小来适应基材,有效提高导电图形边界整齐度。
公开/授权文献
- CN107554076A 一种纳米银喷墨打印墨滴边界对齐优化方法及打印机 公开/授权日:2018-01-09
IPC分类: