发明授权
CN107614482B 放射性标记化合物的制造装置及制造方法
失效 - 权利终止
- 专利标题： 放射性标记化合物的制造装置及制造方法
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申请号： CN201680030681.3申请日： 2016-05-13
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公开(公告)号： CN107614482B公开(公告)日： 2020-10-20
- 发明人: 中村大作 , 外山正人 , 赤间佳 , 江原秀明
- 申请人： 日本医事物理股份有限公司
- 申请人地址： 日本东京都
- 专利权人： 日本医事物理股份有限公司
- 当前专利权人： 日本医事物理股份有限公司
- 当前专利权人地址： 日本东京都
- 代理机构： 北京市金杜律师事务所
- 代理商 杨宏军; 李国卿
- 优先权： 2015-115179 2015.06.05 JP
- 国际申请： PCT/JP2016/064396 2016.05.13
- 国际公布： WO2016/194586 JA 2016.12.08
- 进入国家日期： 2017-11-27
- 主分类号： C07C227/18
- IPC分类号： C07C227/18 ; A61K51/00 ; B01J20/22 ; C07B59/00 ; C07C229/48
摘要：
放射性标记化合物的制造装置(100)是通过向非放射性的标记前体化合物中导入放射性同位素从而制造放射性标记化合物的制造装置。制造装置(100)具有：固相萃取部(10)，所述固相萃取部(10)实施特定处理，所述特定处理是中间体化合物的反应、中间体化合物的纯化、或放射性标记化合物的纯化；和冷却部(20)，在实施特定处理时，所述冷却部(20)对固相萃取部(10)进行冷却。
公开/授权文献
- CN107614482A 放射性标记化合物的制造装置及制造方法 公开/授权日：2018-01-19
