发明公开
CN107629236A 一种双面超薄防静电有机硅离型膜制备方法
无效 - 驳回
- 专利标题: 一种双面超薄防静电有机硅离型膜制备方法
- 专利标题(英): Double-sided ultrathin antistatic organic silicon release film preparation method
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申请号: CN201610567867.4申请日: 2016-07-19
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公开(公告)号: CN107629236A公开(公告)日: 2018-01-26
- 发明人: 李刚
- 申请人: 扬州万润光电科技有限公司
- 申请人地址: 江苏省扬州市仪征经济开发区闽泰大道1号703室扬州万润光电科技有限公司
- 专利权人: 扬州万润光电科技有限公司
- 当前专利权人: 扬州万润光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 江苏省扬州市仪征经济开发区闽泰大道1号703室扬州万润光电科技有限公司
- 代理机构: 扬州苏中专利事务所
- 代理商 沈志海
- 主分类号: C08J7/04
- IPC分类号: C08J7/04 ; C08L67/02 ; B05D3/02 ; B05D3/04 ; B05D5/12 ; B05D7/00 ; B05D7/04
摘要:
一种双面超薄防静电有机硅离型膜制备方法,属于膜制造技术领域,包括厚度为20μm的BOPET基膜以及在基膜两端的有机硅离型层和抗静电涂层;异丙醇比例为20%;抗静电剂与混合稀释溶剂的比例为1:2.5,搅拌机的速度为1000r/min;湿涂布量为2g/㎡;烘干温度为120℃,烘干机速度为10m/min。本发明解决了静电电荷的存在导致产品表面产生灰尘颗粒物的吸附、导致的静电放电会造成电子元器件的损坏、导致火灾、爆炸等灾难性事故等不足,在不增加额外的加工工序以及加工成本的条件下,获得较高抗静电效果,能满足高要求场合的使用。