发明授权
- 专利标题: 一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法
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申请号: CN201710628677.3申请日: 2017-07-28
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公开(公告)号: CN107629310B公开(公告)日: 2020-07-24
- 发明人: 唐平贵 , 李殿卿 , 冯拥军 , 陈廷伟 , 赵梦垚 , 马若愚
- 申请人: 北京化工大学
- 申请人地址: 北京市朝阳区北三环东路15号
- 专利权人: 北京化工大学
- 当前专利权人: 北京化工大学
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区北三环东路15号
- 代理机构: 北京思海天达知识产权代理有限公司
- 代理商 张慧
- 主分类号: C08L23/12
- IPC分类号: C08L23/12 ; C08K5/42 ; C08K5/3435
摘要:
本发明提供了一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法。本发明创新性地将紫外吸收剂与自由基捕获剂共同组装至LDHs层间,利用紫外吸收剂的紫外吸收性能阻隔紫外线对塑料的光降解,利用自由基捕获剂捕获光降解产生的活性自由基减少塑料的光氧化。由于LDHs层间的紫外吸收剂和自由基捕获剂存在协同抗光老化作用,紫外吸收剂与自由基捕获剂共插层结构LDHs的抗光老化性能明显优于紫外吸收剂单插层LDHs,克服了目前紫外吸收剂单插层LDHs抗光老化效果不佳的缺点。本发明制备方法简单、原料来源丰富、便于工业化生产的优点。所制备的超分子插层结构光稳定剂具有耐热性高、耐迁移性好、光保护性能优异等优点,可广泛应用于塑料、涂料等领域。
公开/授权文献
- CN107629310A 一种超分子插层结构光稳定剂及其制备方法 公开/授权日:2018-01-26