- 专利标题: 一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统
- 专利标题(英): Method and system for measuring high-temperature hemispherical emissivity of low thermal conductivity nonconductor material
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申请号: CN201710853728.2申请日: 2017-09-20
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公开(公告)号: CN107655833A公开(公告)日: 2018-02-02
- 发明人: 邱超 , 李世伟 , 孙红胜 , 何立平 , 宋春晖 , 杜继东
- 申请人: 北京振兴计量测试研究所
- 申请人地址: 北京市丰台区云岗北区西里1号院30号
- 专利权人: 北京振兴计量测试研究所
- 当前专利权人: 北京振兴计量测试研究所
- 当前专利权人地址: 北京市丰台区云岗北区西里1号院30号
- 代理机构: 北京天达知识产权代理事务所
- 代理商 龚颐雯; 王一
- 主分类号: G01N21/17
- IPC分类号: G01N21/17 ; G01N21/25
摘要:
本发明涉及一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统。该方法利用材料常温、高温、法向、半球发射率的关系,通过测量常温半球发射率、常温法向发射率及高温法向发射率,导出材料高温半球发射率。测量系统包括常温半球发射率测量装置、常温法向发射率测量装置及高温法向发射率测量装置。本发明通过间接测量的方式,得出高温半球发射率,实现了低导热率非导体材料高温半球发射率测量途径,测量过程科学,结果准确可靠。
公开/授权文献
- CN107655833B 一种低导热率非导体材料高温半球发射率测量方法与系统 公开/授权日:2020-01-21