Invention Grant
- Patent Title: 3D存储器
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Application No.: CN201710749887.8Application Date: 2017-08-28
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Publication No.: CN107658307BPublication Date: 2020-02-25
- Inventor: 吕震宇 , 李勇娜 , 宋立东 , 刘丹
- Applicant: 长江存储科技有限责任公司
- Applicant Address: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- Assignee: 长江存储科技有限责任公司
- Current Assignee: 长江存储科技有限责任公司
- Current Assignee Address: 湖北省武汉市洪山区东湖开发区关东科技工业园华光大道18号7018室
- Agency: 北京辰权知识产权代理有限公司
- Agent 刘广达
- Main IPC: H01L27/11526
- IPC: H01L27/11526 ; H01L27/11551
Abstract:
本发明公开了一种3D存储器结构,该3D存储器结构包括多个分区,每个分区包括外围器件层、触点连接层、阵列器件层,外围器件层、触点连接层与阵列器件层顺序叠层设置。本发明创建了合适的字线和位线的触点解决方案,通过合理布局单元下层外围电路组件的位置,使芯片的集成度得到提高,在CMOS芯片位置布局上得到了改进,降低了单个芯片的大小。
Public/Granted literature
- CN107658307A 3D存储器 Public/Granted day:2018-02-02
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IPC分类: