发明公开
CN107674442A 黑矩阵材料及其制备方法、显示装置
无效 - 驳回
- 专利标题: 黑矩阵材料及其制备方法、显示装置
- 专利标题(英): Black matrix material, and preparation method and display device thereof
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申请号: CN201710873648.3申请日: 2017-09-25
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公开(公告)号: CN107674442A公开(公告)日: 2018-02-09
- 发明人: 梁栋 , 王凯旋 , 彭晓青 , 张瑞辰 , 刘英丽
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方光电科技有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方光电科技有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京天昊联合知识产权代理有限公司
- 代理商 柴亮; 张天舒
- 主分类号: C08L101/00
- IPC分类号: C08L101/00 ; C08K3/38
摘要:
本发明提供一种黑矩阵材料及其制备方法、显示装置,属于辐射防护技术领域,其可至少部分解决现有的防辐射材料成本高、重量大、有毒性的问题。本发明的黑矩阵材料用于形成黑矩阵,所述黑矩阵材料包括:主料,其用于形成黑矩阵主体;掺杂在所述主料中的锰方硼石颗粒。