一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法
摘要:
本发明公开了一种GST致密晶粒结构的自洁净玻璃的制造方法,包括如下步骤:(1)在锡槽的635~640℃的温度区域设置第一镀膜反应装置,在锡槽的620~630℃的温度区域设置第二镀膜反应装置;(2)将第一原料气体送入第一镀膜反应装置中对锡槽中的玻璃基片进行镀膜反应;(3)将第二原料气体送入第二镀膜反应装置中对锡槽中的镀膜玻璃基片进行镀膜反应。本发明采用双层膜折射率梯度,通过膜层折射率梯度来降低复合膜层的折射率,大面积镀膜均匀性好,且成本低廉。
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