本发明公开了一种掩膜版框架和蒸镀系统，属于蒸镀工艺领域。所述掩膜版框架包括平行间隔设置的第一支撑臂和第二支撑臂，所述第一支撑臂和所述第二支撑臂上均设有用于固定掩膜版的固定接触平面，所述第一支撑臂的固定接触平面靠近所述第二支撑臂的第一侧边与所述第二支撑臂的固定接触平面靠近所述第一支撑臂的第二侧边平行，与所述第一侧边和第二侧边在同一平面内且相垂直的方向为第一方向；所述掩膜版包括图形区域和非图形区域，所述第一侧边与所述第二侧边之间的垂直距离大于所述掩膜版的所述图形区域在所述第一方向上的长度。