发明公开
CN107740049A 一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置
失效 - 权利终止
- 专利标题: 一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置
- 专利标题(英): Magnetic partition, evaporation cavity and evaporation device
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申请号: CN201711032893.8申请日: 2017-10-27
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公开(公告)号: CN107740049A公开(公告)日: 2018-02-27
- 发明人: 扈自清 , 任星利 , 王国庆 , 康建东 , 孙忠强 , 赵镜 , 张磊 , 王斌 , 李国强 , 李晓龙 , 王在成
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- 代理商 申健
- 主分类号: C23C14/24
- IPC分类号: C23C14/24 ; C23C14/04
摘要:
本发明实施例提供一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置,涉及蒸镀技术领域,能够解决现有技术中的磁隔板对掩模版上各个部分的磁吸力大小不均匀、磁吸附效果较差的问题。包括:底板。多组条形磁铁组,条形磁铁组设置在底板上,多组条形磁铁组并列设置且相互平行。其中,条形磁铁组包括多个条形磁铁,多个条形磁铁沿垂直于其长度方向间隔设置,且多个条形磁铁设置相同的极性方向。提高了磁隔板对掩模版以及设置在磁隔板与掩模版之间的待蒸镀基板的吸附能力,并使得磁隔板对掩模版以及待蒸镀基板上各个位置处的吸附效果较为均衡,提高了待蒸镀基板的蒸镀效果。
公开/授权文献
- CN107740049B 一种磁隔板及蒸镀腔室、蒸镀装置 公开/授权日:2020-02-18
IPC分类: