发明授权
CN107843335B 靶面杂光光照度测量装置及测量方法
失效 - 权利终止
摘要:
本发明提供了一种靶面杂光光照度测量装置及测量方法。靶面杂光光照度测量装置包括漫反射板、投影镜头、测量仪及控制器。漫反射板包括框型的基板及漫反射层,基板用于覆盖光阀靶面的非作用区,漫反射层设于基板上。漫反射层的反射特性满足余弦辐射体的要求,投射在漫反射板的杂光经漫反射层漫反射成反射光束。反射光束经投影镜头投影形成成像区。测量仪用于测量非作用区的杂光投影到成像区上的光照度。控制器根据成像区的面积及光照度,计算得到靶面杂光光照度。通过上述靶面杂光光照度测量装置及测量方法能够实现对DMD等光阀进行靶面杂光光照度的测量。
公开/授权文献
- CN107843335A 靶面杂光光照度测量装置及测量方法 公开/授权日:2018-03-27