发明授权
- 专利标题： 光学积层体的制造方法
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申请号： CN201680041612.2申请日： 2016-07-13
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公开(公告)号： CN107848266B公开(公告)日： 2020-10-20
- 发明人: 村重毅 , 稻垣淳一 , 细川和人
- 申请人： 日东电工株式会社
- 申请人地址： 日本大阪府
- 专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人： 日东电工株式会社
- 当前专利权人地址： 日本大阪府
- 代理机构： 北京市柳沈律师事务所
- 代理商 朴渊
- 优先权： 2015-141266 2015.07.15 JP
- 国际申请： PCT/JP2016/070640 2016.07.13
- 国际公布： WO2017/010498 JA 2017.01.19
- 进入国家日期： 2018-01-15
- 主分类号： B32B17/10
- IPC分类号： B32B17/10 ; C03B17/06 ; C03C17/32
摘要：
本发明提供一种即便使用薄玻璃制造效率也优异的光学积层体的制造方法。本发明的光学积层体的制造方法包括：薄玻璃制造步骤，其制造厚度为100μm以下的薄玻璃；积层步骤，其在该薄玻璃的单面或两面积层光学膜；该薄玻璃制造步骤及该积层步骤在连续线进行，在该积层步骤中，在该薄玻璃受到支撑的状态下，在该薄玻璃上贴合该光学膜。
公开/授权文献
- CN107848266A 光学积层体的制造方法 公开/授权日：2018-03-27
