Invention Grant
- Patent Title: 一种窄分布二异氰酸酯三聚体的制备方法
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Application No.: CN201711287962.XApplication Date: 2017-12-07
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Publication No.: CN107868226BPublication Date: 2020-08-28
- Inventor: 孙立冬 , 尚永华 , 王玉启 , 王暖程 , 胡浩 , 李和甫 , 侯文才
- Applicant: 万华化学集团股份有限公司
- Applicant Address: 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号
- Assignee: 万华化学集团股份有限公司
- Current Assignee: 万华化学集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 山东省烟台市经济技术开发区天山路17号
- Agency: 北京信诺创成知识产权代理有限公司
- Agent 陈悦军
- Main IPC: C08G18/79
- IPC: C08G18/79 ; C08G18/09 ; C07D251/24 ; B01J31/02
Abstract:
本发明提供一种窄分布二异氰酸酯三聚体的制备方法，包括如下步骤：在惰性气体保护下，二异氰酸酯单体在催化剂存在下进行聚合反应以制备所述二异氰酸酯三聚体，所述催化剂为N‑烷基化固体催化剂。所述聚合反应具体为一种非均相的三聚反应。本发明提供的二异氰酸酯三聚体的制备方法，可制得窄分布的二异氰酸酯三聚体。
Public/Granted literature
- CN107868226A 一种窄分布二异氰酸酯三聚体的制备方法 Public/Granted day:2018-04-03
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IPC分类:
