发明公开
- 专利标题: 一种基于空化效应的气液固三相磨粒流平面抛光系统
- 专利标题(英): Gas-liquid-solid three-phase abrasive flow plane polishing system based on cavitation effect
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申请号: CN201710977225.6申请日: 2017-10-19
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公开(公告)号: CN107877394A公开(公告)日: 2018-04-06
- 发明人: 计时鸣 , 潘烨 , 曹慧强 , 谭大鹏
- 申请人: 浙江工业大学
- 申请人地址: 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
- 专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人: 浙江工业大学
- 当前专利权人地址: 浙江省杭州市下城区朝晖六区潮王路18号
- 代理机构: 杭州浙科专利事务所
- 代理商 吴秉中
- 主分类号: B24C3/02
- IPC分类号: B24C3/02 ; B24C7/00 ; B24C9/00
摘要:
本发明公开了一种基于空化效应的气液固三相磨粒流平面抛光系统,包括二自由度移动装置、气液固混合装置、旋转驱动装置、空化抛光工具、工件装夹装置、工件加工池、磨粒流循环装置、高压气体注入装置和控制台,空化抛光工具包括外约束块和内约束块,内约束块与外约束块共同形成入口大、出口小的环形窄缝流道,该环形窄缝流道通过外约束体上的内部流道与旋转主轴上的通孔相通。本发明利用结构空化原理,在空化抛光工具上设置环形窄缝流道,利用入口较大出口较小的流道设计实现了液体本身的结构空化,实现工件表面的高效材料去除率;通过空化抛光工具上圆角的设计实现液体二次空化,提高了流体抛光加工效率。
公开/授权文献
- CN107877394B 一种基于空化效应的气液固三相磨粒流平面抛光系统 公开/授权日:2023-07-14