发明授权
- 专利标题： 聚合物电解质膜及其制备方法
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申请号： CN201610871811.8申请日： 2016-09-30
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公开(公告)号： CN107887642B公开(公告)日： 2021-04-02
- 发明人: 杨扬 , 王晋 , 韩文 , 国田友之 , 梅田浩明 , 出原大辅 , 后藤哲哉
- 申请人： 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司
- 申请人地址： 上海市闵行区紫竹高新技术产业开发区紫月路369号
- 专利权人： 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司
- 当前专利权人： 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司
- 当前专利权人地址： 上海市闵行区紫竹高新技术产业开发区紫月路369号
- 主分类号： H01M10/0565
- IPC分类号： H01M10/0565 ; H01M10/058 ; H01M8/1027 ; H01M8/1032 ; H01M8/1086
摘要：
本发明提出了一种聚合物电解质膜及其制备方法,该聚合物电解质膜具有超低的尺寸变化率和高离子交换容量。本发明是首次采用低温拉伸含水膜的方法来制备聚合物电解质膜，通过简单、低能耗的方法即可得到具有低尺寸变化率同时保持高离子交换容量、质子传导率和机械性能的聚合物电解质膜，使得聚合物电解质的耐久性和使用寿命得到大幅改善，应用前景更为明确。
公开/授权文献
- CN107887642A 聚合物电解质膜及其制备方法 公开/授权日：2018-04-06
