发明公开
CN107957653A 幕布及其制造方法、投影系统
无效 - 驳回
- 专利标题: 幕布及其制造方法、投影系统
- 专利标题(英): Curtain and manufacturing method thereof, and projection system
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申请号: CN201810040403.7申请日: 2018-01-16
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公开(公告)号: CN107957653A公开(公告)日: 2018-04-24
- 发明人: 白冰 , 陈维涛 , 朴仁镐 , 张明辉 , 刘建涛
- 申请人: 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方显示技术有限公司
- 申请人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人: 京东方科技集团股份有限公司,北京京东方显示技术有限公司
- 当前专利权人地址: 北京市朝阳区酒仙桥路10号
- 代理机构: 北京三高永信知识产权代理有限责任公司
- 代理商 滕一斌
- 主分类号: G03B21/60
- IPC分类号: G03B21/60
摘要:
本发明公开了一种幕布及其制造方法、投影系统,属于显示技术领域。幕布包括:第一透光基板;设置在所述第一透光基板的一侧的黑矩阵以及光子晶体层,所述光子晶体层包括矩阵状排布的多个光子晶体,所述多个光子晶体包括至少两种颜色的光子晶体;设置在所述光子晶体层远离所述第一透光基板的一侧的第二透光基板。本发明通过光子晶体的光子带隙特性使得幕布能够滤除干扰光线,使其反射的光线的对比度较高,提升了幕布上图像的显示效果。