发明公开
- 专利标题: FET阵列的VTSAT及VTLIN的高速及高精密度的特征化
- 专利标题(英): High speed and high precision characterization of VTSAT and VTLIN of FET arrays
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申请号: CN201710970893.6申请日: 2017-10-18
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公开(公告)号: CN107977041A公开(公告)日: 2018-05-01
- 发明人: U·埃克哈特 , J·保德塔 , M·贝尔 , D·费米尔 , K-H·桑迪希
- 申请人: 格芯公司
- 申请人地址: 英属开曼群岛大开曼岛
- 专利权人: 格芯公司
- 当前专利权人: 格芯公司
- 当前专利权人地址: 英属开曼群岛大开曼岛
- 代理机构: 北京戈程知识产权代理有限公司
- 代理商 程伟; 王锦阳
- 优先权: 15/299,824 2016.10.21 US
- 主分类号: G05F3/26
- IPC分类号: G05F3/26
摘要:
本揭示内容涉及FET阵列的VTSAT及VTLIN的高速及高精密度的特征化,其有关于电路结构,且具体而言,有关于侦测FET阵列的VTSAT及VTLIN的高速及高精密度的特征化的电路结构,及其制法和用途。该电路包括由差分放大器、多个FET阵列及至少一模拟开关组成的控制回路,该至少一模拟开关使得能够在校正模式与操作模式之间选择。
公开/授权文献
- CN107977041B FET阵列的VTSAT及VTLIN的高速及高精密度的特征化 公开/授权日:2020-09-29
IPC分类: